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苏州纳印光电科技有限公司研发原子层沉积镀膜设备新建项目环境影响报告表公示

时间:2025-03-28 18:30:37  来源:苏州独墅湖科教创新区    本文被阅读次数:

建设单位正在进行“苏州纳印光电科技有限公司研发原子层沉积镀膜设备新建项目”环境影响评价工作。根据《建设项目环境影响评价政府信息公开指南(试行)》(环办[2013]103号)相关内容,现将该项目环评文本内容公示如下,并征求公众意见。公示期为公示之日起2个工作日。

一、项目概况

项目名称:苏州纳印光电科技有限公司研发原子层沉积镀膜设备新建项目

建设单位:苏州纳印光电科技有限公司

建设地址:苏州工业园区创苑路236号4号楼807室

建设性质:新建

项目概况:本项目位于苏州工业园区创苑路236号,新租赁现有士齐生物研发中心(苏州工业园区)有限公司807室厂房进行新建,租赁面积为347m2。本次新建实验室主要为原子层沉积镀膜设备的研发。

二、建设单位名称和联系方式

建设单位:苏州纳印光电科技有限公司

通讯地址:苏州工业园区创苑路236号4号楼807室

联系人:马工

联系电话:18292880523

三、评价机构名称和联系方式

评价单位:苏州市环科环保技术发展有限公司

联系人:张工

联系电话:0512-65262346

联系地址:苏州市姑苏区东吴北路81号

四、公众提出意见的起止时间和主要方式

公众可在本项目公示之日起2个工作日内,向建设单位或环评单位提出宝贵意见。

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